簡單的介紹下賽默飛ICP光譜儀的校正方法

　　賽默飛ICP光譜儀采用直接驅動裝置傳動光柵，保證了極快的分析速度和好的重現性。采用40.68MHZ RF發生器以保證高的信號背景比(S/B)和很低的檢出限。采用新技術設計了優良的檢測系統，保證了分析質量的可靠。在等離子體發射光譜分析中具有非常好的檢出限和任意選擇分析元素的靈活性。從而可分析各種物資材料的樣品成分, 特別在各種高純材料及高純稀土的雜質成分分析方面更具有優勢。系統采用了進口元器件，非常有保障的保證了定位能力，并且還有先進的電子控制系統，您可以放心使用購買。

　　儀器可用標樣中目標元素的“真實濃度”與分析線對和強度比（R）擬合工作曲線（校準曲線）。如果鐵含量變化過大，如高、中合金鋼，其影響不可忽略，需要用標樣中目標元素的“相對濃度”（或“濃度比”）與分析線對和強度比（R）擬合工作曲線，這就是我國光譜分析的前輩講的“誘導含量法”。如果希望用同一工作曲線同時分析高、中、低合金鋼，那就都要用“相對濃度”來校正基體含量的影響。更進一步，如果既要校正基體含量的影響，又要校正共存元素的干擾，就應該用“表觀濃度”來擬合工作曲線。

　　賽默飛ICP光譜儀在使用前應先進行校正，具體方法如下：

　　一、 光學系統校正

　　在儀器中，操作軟件自動控制儀器每30分鐘快速校正、每2小時*校正光學系統。如果實驗室環境溫度變化較大，不能保證工作條件，可能造成測量結果數據漂移。

　　二、 等離子體位置校正

　　等離子體位置校正的目的是將光源對準光學系統。通常在重新裝配進樣系統后，點燃等離子體，用Mn溶液（10ug/mL）校正。在等離子體位置校正過程中，值得注意的是：確保選中Mn  257.610波長、Mn溶液能夠正常進入霧化器并形成氣溶膠進入等離子體。如果上述條件沒有滿足，可能造成校正失敗。

　　三、 波長校正

　　在使用任何一個元素、任何一個波長進行分析測量之前，都要做波長校正。賽默飛ICP光譜儀波長校正的目的是：對事先存儲在譜線庫中的理論波長坐標位置進行修正、保證實際使用的波長坐標位置準確。